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氧化硅抛光液

作者: 发布于:2014/8/22 15:08:24 来源:[content:source] 点击量:

二氧化硅抛光液

本所系列二氧化硅均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:铝合金、不锈钢、精密五金、光钎阵列、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。可生产不同粒度(10~150 nm)的产品满足用户需求。产品具有以下性质:

①高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)

②粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)

③高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污

④高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工


图2  二氧化硅抛光液粒度分布

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